Λιθογραφία EUV υψηλής NA με χρήση λέιζερ ελεύθερων ηλεκτρονίων
High NA EUV lithography using a free electron laser
Προβολή/
Όνομα μέλους επιτροπής
Δασκαλοπούλου, Ασπασία
Τσαλαπάτα, Χαρίκλεια
Όνομα Επιβλέποντος
Χροναίος, Αλέξανδρος
Ημερομηνία
2024Γλώσσα
en
Λέξη-κλειδί
Πρόσβαση
ελεύθερη
Ακαδημαϊκός Εκδότης
Πανεπιστήμιο Θεσσαλίας. Πολυτεχνική Σχολή. Τμήμα Ηλεκτρολόγων Μηχανικών και Μηχανικών Υπολογιστών.
Collections
Attribution-NonCommercial-NoDerivatives 4.0 International